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蘇州硅pin硅光電二極管陣列

來源: 發(fā)布時間:2025-05-16

世華高半導(dǎo)體已成為一家先進(jìn)的半導(dǎo)體器件制造商。公司在全球范圍內(nèi)設(shè)有多個銷售機(jī)構(gòu),分布在中國、印度、泰國、伊朗、香港等多個國家和地區(qū)。高反層109由高折射率薄膜與低折射率薄膜交替疊加組成;2)利用等離子刻蝕機(jī)在高反層109上以干法刻蝕開設(shè)刻蝕孔,并刻蝕掉與正面金屬電極106相對的高反層109;3)刻蝕完成后,在高反層109上以化學(xué)氣相淀積的方法生長電阻率500~1000ohm·cm的n-外延層,其厚度與耗盡區(qū)寬度相當(dāng);4)在外延層101上以as離子源進(jìn)行n型離子注入,注入劑量1e15~2e15,形成保護(hù)環(huán)102。與保護(hù)環(huán)102間距12~20um,在外延層101上以b離子源進(jìn)行p型離子注入,注入劑量1e15~2e15,形成有源區(qū)103;5)在保護(hù)環(huán)102和有源區(qū)103上通過熱氧化法生成sio2層104,在sio2層上方淀積生長si3n4層105;6)接連刻穿si3n4層和sio2層形成接觸孔,然后濺射al,并將濺射層刻蝕形成正面金屬電極106;7)在襯底107背面直接進(jìn)行金屬化處理形成背面電極108。下面給出具體的實(shí)施例。實(shí)施例11)在n+重?fù)诫s的襯底107上濺射生成厚度3~5um的高反層109,2)利用等離子刻蝕機(jī)干法刻蝕工藝在高反層109刻孔;3)高反層109上通過淀積的方法生長n-外延層101。世華高硅光電二極管帶你開啟智慧生活。蘇州硅pin硅光電二極管陣列

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將石英玻璃罩1與下固定板7連接,使石英玻璃罩1與下固定板7形成一密閉空間,在連接時,打開電磁鐵開關(guān),電磁鐵6與磁環(huán)17磁性連接,以增強(qiáng)石英玻璃罩1與下固定板7之間的密封性能,從而保證真空焊接系統(tǒng)的實(shí)用性,確認(rèn)將石英玻璃罩1封閉后,型號為suk2n-1412mr/mt的plc控制器型號為zca的真空電磁閥9開啟,同時型號為rv2000y的微型真空泵10將石英玻璃罩1中的空氣抽出,使石英玻璃罩1內(nèi)部保持真空,當(dāng)石英玻璃罩1內(nèi)部處于真空環(huán)境后,打開感應(yīng)線圈開關(guān),感應(yīng)線圈16對二極管硅疊進(jìn)行高頻加熱,同時打開溫度檢測儀開關(guān)和熔深檢測儀開關(guān),型號為sin-r9600的溫度檢測儀13和型號為bx-200的熔深檢測儀14對加熱溫度和熔化厚度進(jìn)行檢測,當(dāng)加熱溫度和熔化厚度達(dá)到一定要求時,停止加熱,同時關(guān)閉型號為zca的真空電磁閥9和型號為rv2000y的微型真空泵10。深圳市世華高半導(dǎo)體有限公司(SIVAGO)成立于2004年,總部設(shè)在深圳,主要負(fù)責(zé)研發(fā)和銷售工作。該公司選擇將汕尾深汕特別合作區(qū)作為生產(chǎn)基地,負(fù)責(zé)光電器件的制造。其產(chǎn)品范圍包括光電二極管、光電三極管、紅外線接收頭、發(fā)射管、發(fā)光二極管、硅光電池、霍爾元件、光電開關(guān)、光電編碼器、紙張感應(yīng)器和光電耦合器等。經(jīng)過十余年的發(fā)展。珠海光電硅光電二極管哪家好硅光電二極管廠家選擇世華高!

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深圳市世華高半導(dǎo)體有限公司(SIVAGO)成立于2004年,總部設(shè)在深圳,主要負(fù)責(zé)研發(fā)和銷售工作。該公司選擇將汕尾深汕特別合作區(qū)作為生產(chǎn)基地,負(fù)責(zé)光電器件的制造。硅光電二極管是當(dāng)前普遍應(yīng)用的半導(dǎo)體光電二極管。下面我們談?wù)?CU和2DU兩種類型硅光電二極管的種類、構(gòu)造以及應(yīng)用上的一些問題。種類與構(gòu)造一、2CU型硅光電二極管:2CU型硅光電二極管是用N型硅單晶制作的,根據(jù)外形尺寸的大小它又可分2CU-1-,2CU-2-,2CU-3-等型號,其中2CU-1-與2CU-2-體積較大,2CU-3-稍小些(見圖1(a))。這種類型的光電二極管多用帶透鏡窗口的金屬管殼封裝,下端有正、負(fù)兩個電極引線,它們分別與管心中的光敏面(P型層)和N型襯底相連。光線從窗入后經(jīng)透鏡聚焦在管心上,由于這種聚光作用增強(qiáng)了光照強(qiáng)度,從而可以產(chǎn)生較大的光電流。二、2DU型硅光電二極管:2DU型硅光電二極管是用P型硅單晶制作的,從外形上分有2DUA,2DUB等類型,其中2DUA型管子體積較小些(見圖1(b))。2DU型硅光電二極管目前多采用陶瓷樹脂封裝,入射光的窗口不帶透鏡。這類管子引線共有三條,分別稱作前極、后極、環(huán)極(見圖1(b))。前極即光敏區(qū)(N型區(qū))的引線;后極為襯底(P型區(qū))的引線。

以p型離子注入形成有源區(qū);所述的氧化硅層為熱氧化生成sio2層,所述的氮化硅層為淀積生長的si3n4層;所述的正面金屬電極是在濺射后經(jīng)刻蝕成形。所述外延層的電阻率為500~1000ohm·cm,外延層厚度wepi根據(jù)耗盡區(qū)寬度wd確定:wepi≈wd,而wd≥w入/2,其中w入=f(λ),w入為入射光入射深度,λ為入射光波長。一種高速高響應(yīng)度的硅基光電二極管的制備方法,包括以下操作:1)在襯底上濺射生成高反層;2)高反層開設(shè)刻蝕孔;3)高反層上通過淀積的方法生長外延層;4)在外延層上通過離子注入分別形成保護(hù)環(huán)和有源區(qū);5)在保護(hù)環(huán)和有源區(qū)上生成sio2層,然后在sio2層上方生成si3n4層;6)在sio2層、si3n4層上刻出接觸孔,然后濺射金屬,濺射完成后刻蝕形成正面金屬電極;7)在襯底的背面做金屬化處理形成背面電極。所述的襯底采用電阻率20~100為ohm·cm的低電阻率硅材料;襯底直接與背面金屬形成良好的歐姆接觸;所述的高反層是由折射率~~,通過化學(xué)氣相淀積或光學(xué)鍍膜技術(shù)生成;所述的外延層的電阻率為500~1000ohm·cm,外延層的厚度與耗盡區(qū)寬度相當(dāng);所述的保護(hù)環(huán)為as離子源注入,注入劑量為1e15~2e15。深圳市世華高半導(dǎo)體有限公司(SIVAGO)成立于2004年,總部設(shè)在深圳。硅光電二極管工作原理哪家好?世華高。

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6)在sio2層104、si3n4層105上刻出接觸孔,然后濺射金屬,濺射完成后刻蝕形成正面金屬電極106;7)在襯底107的背面做金屬化處理形成背面電極108。進(jìn)一步的,所述的襯底107采用電阻率20~100為ohm·cm的低電阻率硅材料;襯底107直接與背面金屬形成良好的歐姆接觸;所述的高反層109是由折射率~~,通過化學(xué)氣相淀積或光學(xué)鍍膜技術(shù)生成;所述的外延層101的電阻率為500~1000ohm·cm,外延層101的厚度與耗盡區(qū)寬度相當(dāng);所述的保護(hù)環(huán)102為as離子源注入,注入劑量為1e15~2e15。所述的有源區(qū)103為b離子源注入,注入劑量為1e15~2e15;所述的正面金屬電極106是在濺射al之后刻蝕形成。具體的,包括以下操作:1)以在n+摻雜硅材料作為襯底107,在其上通過化學(xué)氣相淀積或光學(xué)鍍膜生成厚度3~5um的高反層109;其中。深圳市世華高半導(dǎo)體有限公司(SIVAGO)成立于2004年,總部設(shè)在深圳,主要負(fù)責(zé)研發(fā)和銷售工作。該公司選擇將汕尾深汕特別合作區(qū)作為生產(chǎn)基地,負(fù)責(zé)光電器件的制造。其產(chǎn)品范圍包括光電二極管、光電三極管、紅外線接收頭、發(fā)射管、發(fā)光二極管、硅光電池、霍爾元件、光電開關(guān)、光電編碼器、紙張感應(yīng)器和光電耦合器等。經(jīng)過十余年的發(fā)展。世華高專業(yè)研究硅光電二極管。溫州濱松硅光電二極管哪家好

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