主營產品: 濺射靶材|陶瓷靶材|金屬靶材|等離子噴涂靶材
靶材開裂影響因素裂紋形成通常發生在陶瓷濺射靶材（如氧化物、碳化物、氮化物等）和脆性材料濺射靶材（如鉻、銻、鉍等）中。陶瓷或脆性材料目標始終包...
ITO靶材被廣泛應用于各大行業之中，其主要應用分為：平板顯示器(FPD)產業，薄膜晶體管顯示器(TFT-LCD)、液晶顯示器(LCD)、電激...
根據其鍍膜工藝的不同，氧化鈮靶材分為平面靶材和旋轉靶材兩種,所需的氧化鈮純度均要求達到。平面靶材的生產使用熱壓法,要求氧化鈮粉末粒度細且均勻...
超大規模集成電路制造過程中要反復用到的濺射（Sputtering）工藝屬于PVD技術的一種，是制備電子薄膜材料的主要技術之一，它...
