Dimension-Labs 為激光設備與生產企業推出 Beamhere 光束質量管家。該系統通過智能檢測模塊，可快速完成光斑能量分布測繪、發散角計算及 M 因子分析，幫助用戶優化光束整形效果、提升聚焦精度。所有測試參數均符合 ISO11146 國際標準，包含光斑寬度、質心位置等指標�？蛇x配的 M 測試功能可動態分析光束傳播特性，終由軟件自動生成專業測試報告，將傳統人工檢測效率提升 80% 以上。 產品優勢： 滿足測試需求的全系列產品 適配所有Beamhere光斑分析儀的M M2因子測試模塊 精心設計的分析軟件 軟件真正做到交互友好，簡單易用，一鍵輸出測試報告。近場光斑測試方案，推進半導體，硅光行業優化升級。光斑分析儀操作
維度光電針對當前市場上的諸多行業痛點，隆重推出了光斑分析儀系列產品。在國內激光光束質量分析領域，長期以來存在著一個的問題，那就是缺乏能夠提供多樣化型號及定制化解決方案的光斑分析儀品牌。許多企業長期受限于國外設備的長周期交付和難以定制的缺陷，這不僅影響了生產效率，還增加了企業的運營成本。 針對這一問題，維度光電決定立項光斑分析儀系列產品，旨在解決這一行業難題。我們深知，只有通過自主和創新，才能打破國外設備的壟斷局面，為國內企業提供更加高效、便捷的光束質量分析解決方案。因此，我們致力于打造國內專業、多面的光束質量分析儀品牌，以滿足不同企業的需求。 我們的光斑分析儀系列產品不僅具備多樣化的型號，還能夠根據客戶的實際需求進行定制化設計。無論是激光加工、激光醫療、激光科研還是其他相關領域，我們的產品都能提供、高效的光束質量分析服務。我們相信，通過我們的努力，能夠為國內激光行業的發展注入新的活力，推動整個行業的進步。激光發散角光斑分析儀系統搭建工業光斑檢測儀如何選？維度光電；
維度光電國產光束質量分析解決方案破局之路 國內激光光束質量分析市場長期被歐美品牌壟斷，存在三大痛點：產品型號單一（無法兼顧亞微米光斑與高功率檢測）、定制周期漫長（3-6 個月周期）、服務響應滯后（返廠維修影響生產 35 天 / 次）。 全場景產品矩陣 狹縫式：0.1μm 分辨率，直接測 10W 激光，支持 ±90° 任意角度掃描，滿足半導體加工等亞微米級需求 相機式：5.5μm 像元精度，6 片濾光片轉輪實現 1μW-1W 寬功率檢測，擅長復雜光斑分析 定制化服務：12 項定制選項（波長擴展、自動化接口等），短交付周期 5 天 未來將聚焦多模態光束分析與智能化診斷，為智能制造、醫療科技等提供技術支撐。
維度光電BeamHere 光斑分析儀選型指南： 1. 光束特性分析 光斑尺寸：亞微米用狹縫式（2.5μm 精度），毫米級用相機式（10mm 量程）。 功率等級：高功率用狹縫式（近 10W），微瓦級用相機式（適配衰減片）。 光束形態：高斯用狹縫式（經濟），非高斯用相機式（保留細節）。 脈沖特性：單脈沖用相機式（觸發同步），連續/高頻用狹縫式（匹配掃描頻率）。 2. 應用場景適配 工業：高功率用狹縫式，動態監測與校準用相機式，組合方案覆蓋全流程。 醫療：相機式監測能量分布，脈沖激光適配觸發模式確保精度。 科研：超短脈沖與復雜光束分析用相機式，材料加工優化結合狹縫式。 光通信：光纖檢測用相機式，激光器表征用狹縫式高靈敏度測量。 3. 功能擴展規劃 單一需求：以光斑尺寸與功率為，如高功率 + 亞微米光斑選狹縫式。 復雜場景：雙技術組合（狹縫式 + 相機式），實現全場景覆蓋。 長期規劃：科研機構選全功能模塊（M 因子測試、皮秒同步），工業用戶選基礎款 + 定制接口。光斑分析儀保修期多長？維度光電整機 3 年質保，部件 5 年延保。
Dimension-Labs 維度光電相機式與狹縫式光斑分析儀的選擇需基于應用場景的光斑尺寸、功率等級、脈沖特性及形態復雜度。相機式基于面陣傳感器成像，可測大10mm 光斑（受限于 sensor 尺寸），小光斑為 55μm（10 倍 5.5μm 像元），結合 6 片衰減片（BeamHere 標配）實現 1W 功率測量，適合大光斑、脈沖激光（觸發模式同步捕獲單脈沖）及非高斯光束（如貝塞爾光束）檢測，通過面陣實時反饋保留復雜形態細節。狹縫式采用正交狹縫掃描，刀口模式可測小 2.5μm 光斑，創新狹縫物理衰減機制允許直接測量近 10W 高功率激光，適合亞微米光斑、高功率及高斯光斑檢測，但需嚴格匹配掃描頻率與激光重頻以避免脈沖丟失，且復雜光斑會因狹縫累加導致能量分布失真。維度光電 BeamHere 系列提供雙技術方案，用戶可根據光斑尺寸（亞微米選狹縫，大光斑選相機）、功率等級（高功率選狹縫，微瓦級選相機）及光斑類型（復雜形態選相機，高斯光斑選狹縫）靈活選擇，實現光斑檢測全場景覆蓋。光斑的形狀和強度測量。無干涉光斑分析儀怎么用
光斑分析儀如何測量 M 因子？光斑分析儀操作
Dimension-Labs 推出的掃描狹縫式光斑分析儀，通過國內的雙模式切換技術，實現 190-2700nm 寬光譜覆蓋與 2.5μm-10mm 光束直徑測量。其 0.1μm 超高分辨率可捕捉亞微米級光斑細節，創新設計解決三大檢測痛點： 小光斑測量：刀口模式分析 < 20μm 光斑形態，避免像素丟失 高功率檢測：狹縫物理衰減機制允許直接測量近 10W 激光，無需衰減片 大光斑分析：狹縫模式支持 10mm 光斑能量分布檢測 設備采用正交狹縫轉動輪結構，通過旋轉掃描同步采集 XY 軸數據，經算法處理輸出光束直徑、橢圓率等參數。緊湊設計適配多場景安裝，通過 CE/FCC 認證，適用于激光加工、醫療設備及科研領域，幫助客戶提升光束質量檢測效率，降**檢測成本。光斑分析儀操作
