h):24~168厭氧生物降解(h):96~6723.非生物降解性[24]水中光氧化半衰期(h):4726~×105空氣中光氧化半衰期(h):分子結構數據1、摩爾折射率:2、摩爾體積(cm3/mol):3、等張比容():4、表面張力(dyne/cm):...
通常用于金屬層蝕刻的銅酸蝕刻溶液主要成分為過氧化氫和一些添加劑;過氧化氫用于對金屬進行氧化,而添加劑則主要將氧化物酸化成離子態,使其溶解于溶液中,并且維持蝕刻特性要求。由于過氧化氫同時具有氧化性和還原性,其可以將銅氧化,也可以被金屬離子催化發生歧化分解反應,生...
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2010年前,我國的異丙醇國內生產長期無法滿足需求。當時國內擁有成規模裝置的JIN有錦州石化和山東海科化學這兩家,均為丙烯水合法技術,合計產能13萬噸。約一半的供應缺口需要依靠進口來彌補。2010年之后,我國異丙醇產能開始快速擴張。化工在線統計,截止到2016...
在50℃和低壓下用75%-85%的濃硫酸進行吸收反應,生成硫酸氫異丙酯。加水將吸收液稀釋到硫酸含量為35%后,在解吸塔中用低壓蒸汽將硫酸氫異丙酯水解成異丙醇。經粗蒸塔餾到異丙醇與水的共沸組成,含異丙醇87%左右。再繼續用蒸餾塔蒸濃到95%,用苯萃取、分...
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趙巖建議,企業應重視異丙醇的應用開發及研究,特別要注意新的應用領域,如電子工業清洗劑應用領域是全球異丙醇消費增長ZUI快的領域之一。日本異丙醇在電子精密元件方面的開發應用較早,主要采用高純度異丙醇作為半導體的清洗劑以及金屬脫酯清洗劑。在清洗劑領域,異丙醇的需求...
慧聰化工網訊:目前國內生產異丙醇的工藝技術有三種:BT加氫法、丙烯水合法以及醋酸異丙酯氫化。其中,BT法產能占據大半個江山,據數據監測:BT加氫法產能占據全國總產能的59%左右,而前幾年獨當一面的丙烯法工藝所占份額逐漸降低,目前JIN占全國總產能的22%。大肆...
也不能在回收結束后對裝置內部進行清理的問題。為實現上述目的,本發明提供如下技術方案:一種廢銅蝕刻液的回收處理裝置,包括裝置主體,所述裝置主體內部中間位置固定安裝有分隔板,所述分隔板左端表面靠近中間位置固定安裝有承載板,所述承載板上端表面放置有電解池,所...
如上所述的擋液板結構,其中宣泄孔的孔徑小于3毫米(millimeter,mm)。如上所述的擋液板結構,其中宣泄孔為千鳥排列或矩陣排列等其中的一種排列方式。如上所述的擋液板結構,其中宣泄孔為直通孔或斜錐孔等其中的一種態樣或兩者的混合。如上所述的擋液板結構...
蝕刻是將材料使用化學反應或物理撞擊作用而移除的技術,蝕刻技術分為濕蝕刻和干蝕刻,其中,濕蝕刻是采用化學試劑,經由化學反應達到蝕刻的目的,薄膜場效應晶體管液晶顯示器(tft~lcd)、發光二極管(led)、有機發光二極管(oled)等行業用作面板過程中銦錫氧化物...
內部頂部兩側的震蕩彈簧件14,震蕩彈簧件14頂端的運轉電機組13,運轉電機組13頂端的控制面板15,內部中間部位的致密防腐桿16和致密防腐桿16內部內側的攪動孔17共同組合而成,由于鹽酸硝酸具有較強的腐蝕性,常規的攪拌裝置容易被腐蝕,影響蝕刻液的質量,...
所述液體入口1處設有減壓閥12,所述蒸汽出口5處設有真空泵13、除霧組件3及除沫組件4,所述除霧組件3用于過濾分離器中閃蒸的蒸汽中的含銅液體,所述除沫組件4用于將經除霧組件3除霧的氣體進行除沫。含銅蝕刻液在加熱器11中進行加熱,達到閃蒸要求的溫度,輸送...
為本實用新型擋液板結構其二較佳實施例的宣泄孔排列示意圖,以及其三較佳實施例的宣泄孔排列示意圖,在本實用新型其二較佳實施例中,開設于該第二擋板12上的宣泄孔121亦呈千鳥排列的直通孔態樣,且位于同一列的宣泄孔121之間具有相同的距離,例如:圖4中所示的w...
本發明涉及銅蝕刻液技術領域,具體涉及一種酸性銅蝕刻液的生產工藝。背景技術:高精細芯片和顯示集成電路主要采用銅制程,其光刻工藝中形成銅膜層結構所需用的銅刻蝕液中主要的為過氧化氫系銅刻蝕液。過氧化氫系銅蝕刻液較其他銅刻蝕液體系(如三氯化鐵體系,過硫酸銨體系...
當該風刀裝置40的***風刀41與該第二風刀42為了減少該基板20上所殘留的藥液51而吹出該氣體43時,該氣體43碰到該擋液板結構10后部分會往該復數個宣泄孔121流動,并朝向該第二擋板12的該上表面123宣泄而出,除了保有原有擋液板的防止該藥液51噴...
操作人員的手會與連接構件11接觸,海綿層12可以將操作人員手上的水分進行吸收,避免連接構件11的兩側與操作人員的手接觸的時候,會因操作人員的手沾濕出現手滑的情況,有效的保證了裝置內部構件的連接工作能正常的進行;然后,通過連接構件11將裝置主體1內部構件...
鋁板面蝕刻用:酸、堿都行。(鋁板是兩性材料,既能與酸反應,又能與堿反應,所以腐蝕液有的用堿性材料腐蝕,有的用酸性材料腐蝕,一般情況下,以酸性材料腐蝕的為多,堿性材料可以洗白。下好料的鋁板用棗木碳研磨,去掉油膩、劃痕,磨出啞光表面。然后用絲網版印上紋樣,油墨型號...
其中輸送裝置借由至少一呈順時針方向轉動的滾輪帶動基板由噴灑裝置的下端部朝向風刀裝置的***風刀的下端部的方向移動。如上所述的蝕刻方法,其中風刀裝置分別借由一設置于該輸送裝置的上端部的***風刀與一設置于該輸送裝置的下端部的第二風刀朝向基板的上表面與下表...
也很難保證拖車在地磅頂部不移動。在地磅的頂部平臺中設置有兩條卡塊40,卡塊與平臺之間形成一插槽,在地磅的頂部設置有包括氣缸50和壓緊塊60的氣動夾緊機構,壓緊塊位于插槽中,氣缸的伸縮桿與壓緊塊固連。拖車的邊緣沿插槽插入后,氣缸帶動壓緊塊下行將拖車緊緊壓...
一種ito蝕刻液及其制備方法、應用方法技術領域1.本技術涉及化學蝕刻技術領域,具體涉及一種ito蝕刻液及其制備方法、應用方法。背景技術:2.目前,電子器件的基板表面(例如顯示器件的陣列基板)通常帶有一定圖案的氧化銦錫(ito)膜,以便后續給電子器件可控通電。該...
并利用水滴的表面張力現象防止水滴由該復數個宣泄孔121落下造成該基板20的蝕刻不均等異常現象,確實達到保有原始擋液板的擋液效果,以及增加透氣性以破除真空以減少因真空吸板而導致該基板20刮傷或破片風險等主要優勢。該蝕刻設備1可進一步設置有一噴灑裝置50,...
本發明涉及銅蝕刻液技術領域,具體涉及一種酸性銅蝕刻液的生產工藝。背景技術:高精細芯片和顯示集成電路主要采用銅制程,其光刻工藝中形成銅膜層結構所需用的銅刻蝕液中主要的為過氧化氫系銅刻蝕液。過氧化氫系銅蝕刻液較其他銅刻蝕液體系(如三氯化鐵體系,過硫酸銨體系...
微蝕液包括過硫酸鈉/硫酸體系和雙氧水/硫酸體系,在近幾年的運用在PCB之表面處理制程,例如:沉銅(PTH)制程,電鍍制程、內層前處理、綠油前處理、OSP處理等生產線。我們公司目前對過硫酸鈉/硫酸和雙氧水/硫酸兩種體系的微蝕工序研發設計了不同的循環再生設備。無論...
蝕刻液再生循環系統在電子線路版(PCB)蝕刻過程中,蝕刻液中的銅含量漸漸增加。蝕刻液要達到的蝕刻效果,每公升蝕刻液需含120至180克銅及相應分量的蝕刻鹽(NH4CI)及氨水(NH3)。要持續蝕刻液中上述各種成份的濃度水平,蝕刻用過后的(以下稱[用后蝕刻液])...
本實用涉及電子化學品生產設備技術領域,具體為高蝕刻速率無殘留酸性鋁蝕刻液生產裝置。背景技術:近年來,人們對半導體裝置、液晶顯示器的需求量不斷增加的同時,對于這些裝置所具有的配線、電極等的微小化、高性能化的要求也越來越嚴格,而蝕刻的效果能直接導致電路板制...
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