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EVG公司技術開發和IP總監Markus Wimplinger補充說：“我們開發新技術和工藝以應對*復雜的挑戰，幫助我們的客戶成功地將其新產品創意商業化。技術，我們創建了我們的NILPhotonics能力中心。“在具有保護客戶IP的強大政策的框架內，我們為客戶提供了從可行性到生產階段的產品開發和商業化支持。這正是我們***與AR領域的**者WaveOptics合作所要做的，以為*終客戶提供真正可擴展的解決方案。” EVG的NILPhotonics?能力中心框架內的協作開發工作旨在支持WaveOptics的承諾，即在工業，企業和消費者等所有主要市場領...

EVG ? 720特征： 體積驗證的壓印技術，具有出色的復制保真度 專有SmartNIL ?技術，多使用聚合物印模技術 集成式壓印，UV固化脫模和工作印模制造 盒帶到盒帶自動處理以及半自動研發模式 可選的頂部對準 可選的迷你環境 適用于所有市售壓印材料的開放平臺 從研發到生產的可擴展性 系統外殼，可實現比較好過程穩定性和可靠性技術數據 晶圓直徑（基板尺寸） 75至150毫米 解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝） 支持流程：SmartNIL ? 曝光源：大功率LED（i線）> 400 mW /cm2...

EVG ? 720特征： 體積驗證的壓印技術，具有出色的復制保真度 專有SmartNIL ?技術，多使用聚合物印模技術 集成式壓印，UV固化脫模和工作印模制造 盒帶到盒帶自動處理以及半自動研發模式 可選的頂部對準 可選的迷你環境 適用于所有市售壓印材料的開放平臺 從研發到生產的可擴展性 系統外殼，可實現比較好過程穩定性和可靠性技術數據 晶圓直徑（基板尺寸） 75至150毫米 解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝） 支持流程：SmartNIL ? 曝光源：大功率LED（i線）> 400 mW /cm2...

關于WaveOptics WaveOptics是衍射波導的全球**設計商和制造商，衍射波導是可穿戴AR設備中的關鍵光學組件。 諸如智能眼鏡之類的AR可穿戴設備使用戶能夠觀看覆蓋在現實世界之上的數字圖像。有兩個關鍵元素可讓您看到這些圖像-微型投影儀之類的光源，以及將圖像從投影儀傳遞到用戶眼睛中的一種方式。 WaveOptics的波導技術可傳輸來自光源的光波并將其投射到用戶的眼睛中。該技術可產生大的眼框，雙目觀察和高視野。眼圖框（查看窗口）是從中可以看到完整圖像的AR顯示器的尺寸-請參見下圖。WaveOptics的波導提供清晰，無失真的...

客戶示范 ■工藝開發 ■材料測試 ■與合作伙伴共同研發 ■資助項目 ■小批量試生產 ■IP管理 ■過程技術許可證 ■流程培訓 →世界前列的潔凈室基礎設施 →**的設備 →技術** →**計量 →工藝知識 →應用知識 →與NIL的工作印模材料和表面化學有關的化學專業知識 新應用程序的開發通常與設備功能的提高緊密相關。 EVG的NIL解決方案能夠產生具有納米分辨率的多種不同尺寸和形狀的圖案，并在顯示器，生物技術和光子應用中實現了許多新的創新。 岱美作為EVG在中國區的代理商，歡...

EVG ? 620 NT特征： 頂部和底部對準能力 高精度對準臺 自動楔形補償序列 電動和程序控制的曝光間隙 支持***的UV-LED技術 **小化系統占地面積和設施要求 分步流程指導 遠程技術支持 多用戶概念（無限數量的用戶帳戶和程序，可分配的訪問權限，不同的用戶界面語言） 敏捷處理和轉換工具 臺式或帶防震花崗巖臺的單機版 EVG ? 620 NT附加功能： 鍵對準 紅外對準 SmartNIL μ接觸印刷技術數據 晶圓直徑（基板尺寸） 標準光刻：比較大150毫米的碎片 ...

HERCULES ? NIL特征： 全自動UV-NIL壓印和低力剝離 **多300毫米的基材 完全模塊化的平臺，具有多達八個可交換過程模塊（壓印和預處理） 200毫米/ 300毫米橋接工具能力 全區域烙印覆蓋 批量生產**小40 nm或更小的結構 支持各種結構尺寸和形狀，包括3D 適用于高地形（粗糙）表面 *分辨率取決于過程和模板 HERCULES ? NIL技術數據： 晶圓直徑（基板尺寸）：100至200毫米/ 200和300毫米 解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝） 支持流程：SmartNIL ...

EVG ? 510 HE熱壓印系統 應用：高度靈活的熱壓印系統，用于研發和小批量生產 EVG510 HE半自動熱壓印系統設計用于對熱塑性基材進行高精度壓印。該設備配置有通用壓花室以及真空和接觸力功能，并管理適用于熱壓印的全部聚合物。結合高縱橫比壓印和多種脫壓選項，提供了許多用于高質量納米圖案轉印的工藝。 EVG ? 510 HE特征： 用于聚合物基材和旋涂聚合物的熱壓印應用 自動化壓花工藝 EVG專有的**對準工藝，用于光學對準的壓印和壓印 完全由軟件控制的流程執行 閉環冷卻水供應選項 外部浮雕和冷卻站 HERCULES ? N...

NIL系統肖特增強現實負責人RuedigerSprengard博士表示：“將高折射率玻璃晶圓的制造擴展到300-mm，對于實現我們客戶滿足當今和未來**AR/MR設備不斷增長的市場需求所需的規模經濟產量來說至關重要。通過攜手合作，EVG和肖特彰顯了當今300-mm高折射率玻璃制造的設備和供應鏈的就緒性。”在此之前，使用光刻/納米壓印技術對具有光子學應用結構的玻璃基板進行圖案成形***于200-mm基板。向300-mm晶圓加工的遷移是將AR/MR頭戴顯示設備推向大眾消費和工業市場邁出的重要一步。不過，在這些較大的基板上保持高基板質量和工藝均勻性是很難控制的，需要先進的自動化和工藝控制能力...

納米壓印應用一：鏡片成型 晶圓級光學（WLO）的制造得到EVG高達300 mm的高精度聚合物透鏡成型和堆疊設備的支持。使用從晶片尺寸的主印模復制來的工作印模，通過軟UV壓印光刻將透鏡圖案轉移到光學聚合物材料中。EV Group提供混合和單片微透鏡成型工藝，可以輕松地適應各種材料組合，以用于工作印模和微透鏡材料。EVG系統是客戶進行大批量晶圓級鏡頭復制的優先。岱美作為EVG在中國區的代理商，歡迎各位聯系我們，探討納米壓印光刻的相關知識。我們愿意與您共同進步。 EVG?610/EVG?620NT /EVG?6200NT是具有紫外線納米壓印功能的通用掩模對準系統。上海納米壓印競爭...

客戶示范 ■工藝開發 ■材料測試 ■與合作伙伴共同研發 ■資助項目 ■小批量試生產 ■IP管理 ■過程技術許可證 ■流程培訓 →世界前列的潔凈室基礎設施 →**的設備 →技術** →**計量 →工藝知識 →應用知識 →與NIL的工作印模材料和表面化學有關的化學專業知識 新應用程序的開發通常與設備功能的提高緊密相關。 EVG的NIL解決方案能夠產生具有納米分辨率的多種不同尺寸和形狀的圖案，并在顯示器，生物技術和光子應用中實現了許多新的創新。 岱美作為EVG在中國區的代理商，歡...

納米壓印設備哪個好？預墨印章用于將材料以明顯的圖案轉移到基材上。該技術用于表面化學的局部修飾或捕獲分子在生物傳感器制造中的精確放置。 納米壓印設備可以進行熱壓花、加壓加熱、印章、聚合物、基板、附加沖壓成型脫模。 將聚合物片或旋涂聚合物加熱到其玻璃化轉變溫度以上，從而將材料轉變為粘性狀態。然后以足夠的力將壓模壓入聚合物中。岱美作為EVG在中國區的代理商，歡迎各位聯系我們，探討納米壓印光刻的相關知識。我們愿意與您共同進步。 岱美作為EVG在中國區的代理商，歡迎各位聯系我們，探討納米壓印光刻的相關知識。中科院納米壓印技術原理 EVGROUP?|產品/納米壓印光刻解決...

EVG ? 610 紫外線納米壓印光刻系統 具有紫外線納米壓印功能的通用研發掩膜對準系統，從碎片到比較大150毫米。 該工具支持多種標準光刻工藝，例如真空，軟，硬和接近曝光模式，并且可以選擇背面對準。此外，該系統還為多功能配置提供了附加功能，包括鍵對準和納米壓印光刻（NIL）。EVG610提供快速的處理和重新安裝工具，以改變用戶需求，光刻和NIL之間的轉換時間*為幾分鐘。其先進的多用戶概念可以適應從初學者到**級別的所有需求，因此使其成為大學和研發應用程序的理想選擇。 EVG開拓了這種非常規光刻技術，擁有多年技術，掌握了NIL，并已在不斷增長的基板尺寸上實現了批量生產。...

EVG ? 720自動SmartNIL ? UV納米壓印光刻系統 自動全視野的UV納米壓印溶液達150毫米，設有EVG's專有SmartNIL ?技術 EVG720系統利用EVG的創新SmartNIL技術和材料專業知識，能夠大規模制造微米和納米級結構。具有SmartNIL技術的EVG720系統能夠在大面積上印刷小至40 nm *的納米結構，具有****的吞吐量，非常適合批量生產下一代微流控和光子器件，例如衍射光學元件（ DOEs）。 *分辨率取決于過程和模板 如果需要詳細的信息，請聯系我們岱美儀器技術服務有限公司。也可以訪問官網，獲得更多信息。...

EV Group的一系列高精度熱壓花系統基于該公司市場**的晶圓鍵合技術。出色的壓力和溫度控制以及大面積上的均勻性可實現高精度的壓印。熱壓印是一種經濟高 效且靈活的制造技術，具有非常高的復制精度，可用于**小50 nm的特征尺寸。該系統非常適合將復雜的微結構和納米結構以及高長寬比的特征壓印到各種聚合物基材或旋涂聚合物中。 NILPhotonics?能力中心-支持和開發 NILPhotonics能力中心是經過驗證的創新孵化器。 歡迎各位客戶來樣制作，驗證EVG的納米壓印設備的性能。 EVG開拓了這種非常規光刻技術，擁有多年技術，掌握了NIL，并已在不斷增長的基...

EVG ? 620 NT特征： 頂部和底部對準能力 高精度對準臺 自動楔形補償序列 電動和程序控制的曝光間隙 支持***的UV-LED技術 **小化系統占地面積和設施要求 分步流程指導 遠程技術支持 多用戶概念（無限數量的用戶帳戶和程序，可分配的訪問權限，不同的用戶界面語言） 敏捷處理和轉換工具 臺式或帶防震花崗巖臺的單機版 EVG ? 620 NT附加功能： 鍵對準 紅外對準 SmartNIL μ接觸印刷技術數據 晶圓直徑（基板尺寸） 標準光刻：比較大150毫米的碎片 ...

對于壓印工藝，EVG610允許基板的尺寸從小芯片尺寸到比較大直徑150 mm。納米技術應用的配置除了可編程的高和低接觸力外，還可以包括用于印章的釋放機構。EV Group專有的卡盤設計可提供均勻的接觸力，以實現高產量的壓印，該卡盤支持軟性和硬性印模。 EVG610特征： 頂部和底部對準能力 高精度對準臺 自動楔形誤差補償機制 電動和程序控制的曝光間隙 支持***的UV-LED技術 **小化系統占地面積和設施要求 分步流程指導 遠程技術支持 多用戶概念（無限數量的用戶帳戶和程序，可分配的訪問權限，不同的用戶界面語言） 敏...

SmartNIL是一項關鍵的啟用技術，可用于顯示器，生物技術和光子應用中的許多新創新。例如，SmartNIL提供了****的全區域共形壓印，以便滿足面板基板上線柵偏振器的**重要標準。SmartNIL還非常適合對具有復雜納米結構的微流控芯片進行高精度圖案化，以支持下一代藥 物研究和醫學診斷設備的生產。此外，SmartNIL的***發展為制造具有比較高功能，**小外形尺寸和大體積創新型光子結構提供了更多的自由度，這對于實現衍射光學元件（DOE）至關重要。 特征： 體積驗證的壓印技術，具有出色的復制保真度 專有SmartNIL ?技術，多使用聚合物印模技術 經過生產...

EVG ? 510 HE熱壓印系統 應用：高度靈活的熱壓印系統，用于研發和小批量生產 EVG510 HE半自動熱壓印系統設計用于對熱塑性基材進行高精度壓印。該設備配置有通用壓花室以及真空和接觸力功能，并管理適用于熱壓印的全部聚合物。結合高縱橫比壓印和多種脫壓選項，提供了許多用于高質量納米圖案轉印的工藝。 EVG ? 510 HE特征： 用于聚合物基材和旋涂聚合物的熱壓印應用 自動化壓花工藝 EVG專有的**對準工藝，用于光學對準的壓印和壓印 完全由軟件控制的流程執行 閉環冷卻水供應選項 外部浮雕和冷卻站 岱美作為EVG在中國區的...

納米壓印微影技術可望優先導入LCD面板領域原本計劃應用在半導體生產制程的納米壓印微影技術(Nano-ImpLithography；NIL)，現將率先應用在液晶顯示器(LCD)制程中。NIL為次世代圖樣形成技術。據ETNews報導，南韓顯示器面板企業LCD制程研發小組，未確認NIL設備實際圖樣形成能力，直接參訪海外NIL設備廠。該制程研發小組透露，若引進相關設備，將可提升面板性能。并已展開具體供貨協商。NIL是以刻印圖樣的壓印機，像蓋章般在玻璃基板上形成圖樣的制程。在基板上涂布UV感光液后，再以壓印機接觸施加壓力，印出面板圖樣。之后再經過蝕刻制程形成圖樣。NIL可在LCD玻璃基板上刻印出...

在EVG的NILPhotonics?解決方案支援中心，雙方合作研發用于制造光學傳感器的新材料，以及適用于大眾化市場的晶圓級光學元件。（奧地利）與WINDACH（德國），2019年11月27日――EV集團(EVG)這一全球**的為微機電系統、納米技術與半導體市場提供晶圓鍵合與光刻設備的供應商，***宣布與高科技工業粘合劑制造商DELO在晶圓級光學元件(WLO)領域開展合作。這兩家公司均在光學傳感器制造領域處于**地位。它們的合作將充分利用EVG的透鏡注塑成型與納米壓印光刻(NIL)加工設備與DELO先進的粘合劑與抗蝕材料，在工業，汽車，消費類電子產品市場開發與應用新型光學設備，例如生物特...

其中包括家用電器、醫藥、電子、光學、生命科學、汽車和航空業。肖特在全球34個國家和地區設有生產基地和銷售辦事處。公司目前擁有員工超過15500名，2017/2018財年的銷售額為。總部位于德國美因茨的母公司SCHOTTAG由卡爾蔡司基金會（CarlZeissFoundation）全資擁有。卡爾蔡司基金會是德國歷史**悠久的私立基金會之一，同時也是德國規模比較大的科學促進基金會之一。作為一家基金公司，肖特對其員工，社會和環境負有特殊責任。關于EV集團（EVG）EV集團（EVG）是為半導體、微機電系統（MEMS）、化合物半導體、功率器件和納米技術器件制造提供設備與工藝解決方案的**供應商。其...

UV-NIL / SmartNIL 納米壓印系統 EV Group為基于紫外線的納米壓印光刻（UV-NIL）提供完整的產品線，包括不同的單步壓印系統，大面積壓印機以及用于高 效母版制作的分步重復系統。除了柔軟的UV-NIL，EVG還提供其專有的SmartNIL技術以及多種用途的聚合物印模技術。高 效，強大的SmartNIL工藝可提供高圖案保真度，高度均勻的圖案層和**少的殘留層，并具有易于調整的晶圓尺寸和產量。EVG的SmartNIL兌現了納米壓印的長期承諾，即納米壓印是一種用于大規模生產微米和納米級結構的高性能，低成本和具有批量生產能力的技術。 這個系列的型號包括：EV...

納米壓印應用三：連續性UV納米壓印 EVG770是用于步進重復納米壓印光刻的通用平臺，可用于有效地進行母版制作或對基板上的復雜結構進行直接圖案化。這種方法允許從比較大50 mm x 50 mm的小模具到比較大300 mm基板尺寸的大面積均勻復制模板。與鉆石車削或直接寫入方法相結合，分步重復刻印通常用于高 效地制造晶圓級光學器件制造或EVG的SmartNIL工藝所需的母版。岱美作為EVG在中國區的代理商，歡迎各位聯系我們，探討納米壓印光刻的相關知識。我們愿意與您共同進步。 EVG?610/EVG?620NT /EVG?6200NT是具有紫外線納米壓印功能的通用掩模對準系統。山東...

EVG ? 720特征： 體積驗證的壓印技術，具有出色的復制保真度 專有SmartNIL ?技術，多使用聚合物印模技術 集成式壓印，UV固化脫模和工作印模制造 盒帶到盒帶自動處理以及半自動研發模式 可選的頂部對準 可選的迷你環境 適用于所有市售壓印材料的開放平臺 從研發到生產的可擴展性 系統外殼，可實現比較好過程穩定性和可靠性技術數據 晶圓直徑（基板尺寸） 75至150毫米 解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝） 支持流程：SmartNIL ? 曝光源：大功率LED（i線）> 400 mW /cm2...

EVG ? 7200 LA大面積SmartNIL ? UV納米壓印光刻系統 用于大面積****的共形納米壓印光刻。 EVG7200大面積UV納米壓印系統使用EVG專有且經過量證明的SmartNIL技術，將納米壓印光刻（NIL）縮放為第三代（550 mm x 650 mm）面板尺寸的基板。對于不能減小尺寸的顯示器，線柵偏振器，生物技術和光子元件等應用，至關重要的是通過增加圖案面積來提高基板利用率。NIL已被證明是能夠在大面積上制造納米圖案的**經濟有效的方法，因為它不受光學系統的限制，并且可以為**小的結構提供比較好的圖案保真度。 SmartNIL利用非常強大且可控的加工...

具體說來就是，MOSFET能夠有效地產生電流流動，因為標準的半導體制造技術旺旺不能精確控制住摻雜的水平（硅中摻雜以帶來或正或負的電荷），以確保跨各組件的通道性能的一致性。通常MOSFET是在一層二氧化硅（SiO2）襯底上，然后沉積一層金屬或多晶硅制成的。然而這種方法可以不精確且難以完全掌控，摻雜有時會泄到別的不需要的地方，那樣就創造出了所謂的“短溝道效應”區域，并導致性能下降。一個典型MOSFET不同層級的剖面圖。不過威斯康星大學麥迪遜分校已經同全美多個合作伙伴攜手（包括密歇根大學、德克薩斯大學、以及加州大學伯克利分校等），開發出了能夠降低摻雜劑泄露以提升半導體品質的新技術。研究人員通...

UV納米壓印光刻系統 EVG?610/EVG?620NT /EVG?6200NT：具有紫外線納米壓印功能的通用掩模對準系統 ■高精度對準臺 ■自動楔形誤差補償機制 ■電動和程序控制的曝光間隙 ■支持***的UV-LED技術 ■**小化系統占地面積和設施要求 EVG?720/EVG?7200/EVG?7200LA：自動化的全場納米壓印解決方案，適用于第3代基材 ■體積驗證的壓印技術，具有出色的復制保真度 ■專有的SmartNIL?技術和多用途聚合物印章技術 ■集成式壓印，UV固化，脫模和工作印模制作 ■盒帶間自動處理以及...

曲面基底上的納米結構在許多領域都有著重要應用，例如仿生學、柔性電子學和光學器件等。傳統的納米壓印技術通常采用剛性模板，可以實現亞10nm的分辨率，但是模板不能彎折，無法在曲面基底上壓印制備納米結構。而采用彈性模板的軟壓印技術可以在無外界提供壓力下與曲面保形接觸，實現結構在非平面基底上的壓印復制，但是由于彈性模板的楊氏模量較低，所以壓印結構的分辨率和精度都受到限制。基于目前納米壓印的發展現狀，結合傳統的納米壓印技術和軟壓印技術，中國科學院光電技術研究所團隊發展了一種基于紫外光固化巰基-烯材料的亞100nm分辨率的復合軟壓印模板的制備方法，該模板包含剛性結構層和彈性基底層。（來自網絡，侵權請聯...

HERCULES ? NIL完全集成SmartNIL ?的 UV-NIL紫外光納米壓印系統。 EVG的HERCULES ? NIL產品系列 HERCULES ? NIL完全集成SmartNIL ? UV-NIL系統達200毫米 對于大批量制造的完全集成的納米壓印光刻解決方案，具有EVG's專有SmartNIL ?印跡技術 HERCULES NIL是完全集成的UV納米壓印光刻跟 蹤解決方案，適用于比較大200 mm的晶圓，是EVG的NIL產品組合的***成員。HERCULES NIL基于模塊化平臺，將EVG專有的SmartNIL壓印技...