EDI超純水系統(tǒng)（Electrodeionization）技術(shù)是將電滲析技術(shù)和離子交換技術(shù)相融合，通過(guò)陰、陽(yáng)離子交換膜對(duì)陰、陽(yáng)離子的選擇性透過(guò)作用與離子交換樹(shù)脂對(duì)離子的交換作用，在直流電場(chǎng)的作用下實(shí)現(xiàn)離子的定向遷移，從而完成水的深度除鹽，同時(shí)水電離解產(chǎn)生的氫離子和氫氧根離子對(duì)離子交換樹(shù)脂進(jìn)行再生，因此不需酸堿化學(xué)再生而能連續(xù)制取超純水。EDI系統(tǒng)工作原理：1、RO產(chǎn)水進(jìn)入EDI模塊后被均勻地分配到淡水室中。2、RO膜未脫除的微量離子被淡水室中的離子交換樹(shù)脂吸附在膜表面。3、直流電加在EDI模塊的兩端電極，驅(qū)動(dòng)淡水室中的陰陽(yáng)離子向相應(yīng)電極遷移至濃水室，從而制取高純水。4、在電場(chǎng)作用下，水分子被大量電離成H+和OH-，從而連續(xù)地對(duì)離子交換樹(shù)脂進(jìn)行再生。超純水設(shè)備是用于滿(mǎn)足各行業(yè)需求制取超純水的設(shè)備，一般用于光伏半導(dǎo)體、電子元器件、光電材料.濟(jì)源純水設(shè)備工程公司

超純水系統(tǒng)設(shè)備常見(jiàn)故障問(wèn)題及解決方案如下：4.模塊溢出太多氣體、產(chǎn)水的pH值過(guò)高或過(guò)低：原因：電壓設(shè)定太高。處理方法：下降電壓。5.模塊流過(guò)過(guò)多的電流：原因：①進(jìn)水電導(dǎo)率過(guò)高、②沒(méi)有水流過(guò)模塊。處理方法：①查看RO產(chǎn)水中的TDS、②確定有水流過(guò)組件，不然模塊會(huì)被損壞。超純水系統(tǒng)設(shè)備常見(jiàn)問(wèn)題是脫鹽率的下降和產(chǎn)品水量的下降，如果二者或其中之一緩慢地下降，則可能是塵垢或水垢發(fā)生的常見(jiàn)現(xiàn)象，可以通過(guò)恰當(dāng)?shù)那逑磥?lái)處理問(wèn)題；而偶然或快速的功能下降，則表明處理體系出了問(wèn)題或操作失當(dāng)。當(dāng)發(fā)現(xiàn)體系脫鹽率和產(chǎn)水量下降時(shí)，首先應(yīng)該校正外表，從而防止因外表原因?qū)е抡`判。這些外表包含電導(dǎo)率表、流量表、壓力表、溫度表等。其次，要對(duì)記載的運(yùn)轉(zhuǎn)數(shù)據(jù)進(jìn)行“標(biāo)準(zhǔn)化”。因溫度、進(jìn)水TDS、回收率、使用年限和水通量等發(fā)生變化，都會(huì)引起脫鹽率和產(chǎn)水量的變化。經(jīng)過(guò)計(jì)算得到標(biāo)準(zhǔn)化的產(chǎn)水量和脫鹽率，然后與初始的運(yùn)轉(zhuǎn)數(shù)據(jù)進(jìn)行比較，承認(rèn)體系有無(wú)毛病。如東純水設(shè)備公司超純水設(shè)備主要特點(diǎn)：5.無(wú)酸堿再生設(shè)備和化學(xué)藥品儲(chǔ)運(yùn)。 6.設(shè)備結(jié)構(gòu)緊湊，占地面積小。

根據(jù)水質(zhì)和使用情況，濾芯清洗的頻率可能有所不同二、消毒和清潔1.消毒頻率：建議每3-6個(gè)月進(jìn)行一次消毒，或在發(fā)現(xiàn)水質(zhì)有異味、變色等異常情況時(shí)及時(shí)消毒。步驟：關(guān)閉設(shè)備電源，拆卸濾芯模塊。使用的消毒劑，按照說(shuō)明書(shū)要求的濃度和時(shí)間進(jìn)行消毒。消毒完畢后，用清水沖洗干凈設(shè)備內(nèi)部和濾芯模塊，確保無(wú)殘留消毒劑。重新安裝濾芯模塊，打開(kāi)水源和電源，進(jìn)行系統(tǒng)沖洗。2.清潔日常清潔：定期清潔設(shè)備外殼和周?chē)h(huán)境，保持設(shè)備干燥、整潔。內(nèi)部清潔：在更換濾芯或消毒時(shí)，順便清潔設(shè)備內(nèi)部，去除污垢和殘留物。

電子級(jí)超純水設(shè)備常用工藝(水質(zhì)符合美國(guó)ASTM標(biāo)準(zhǔn)，電子部超純水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)（18MΩ*cm，15MΩ*cm，2MΩ*cm和0.5MΩ*cm四級(jí))1.預(yù)處理－反滲透－水箱－陽(yáng)床－陰床－混合床－純化水箱－純水泵－紫外線(xiàn)殺菌器－精制混床－精密過(guò)濾器－用水對(duì)象2.預(yù)處理－一級(jí)反滲透－加藥機(jī)（PH調(diào)節(jié)）－中間水箱－第二級(jí)反滲透（正電荷反滲膜）－純化水箱－純水泵－紫外線(xiàn)殺菌器－0.2或0.5μm精密過(guò)濾器－用水對(duì)象3.預(yù)處理－反滲透－中間水箱－水泵－EDI裝置－純化系統(tǒng)水箱－純水泵－紫外線(xiàn)殺菌器－0.2或0.5μm精密過(guò)濾器－用水對(duì)象4.預(yù)處理－反滲透－中間水箱－水泵－EDI裝置－純化水箱－純水泵－紫外線(xiàn)殺菌器－精制混床－0.2或0.5μm精密過(guò)濾器－用水對(duì)象電子級(jí)超純水設(shè)備應(yīng)用場(chǎng)合：1.GMP純化水半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路；2.超純材料和超純化學(xué)試劑；3.實(shí)驗(yàn)室和中試車(chē)間；4.汽車(chē)、表面拋光處理；5.其他高科技精微產(chǎn)品。超純水設(shè)備主要特點(diǎn)：3.模塊化生產(chǎn)，并可實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)控制。 4.不須酸堿再生，無(wú)污水排放。

純水設(shè)備和超純水設(shè)備的選擇一、工藝流程不同A.純水設(shè)備：原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過(guò)濾器→活性炭過(guò)濾器→軟水器→精密過(guò)濾器→***級(jí)反滲透→PH調(diào)節(jié)→中間水箱→第二級(jí)反滲透(反滲透膜表面帶正電荷)→純化水箱→純水泵→微孔過(guò)濾器→純水B.超純水設(shè)備：預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線(xiàn)殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過(guò)濾器→超純水二、水的電導(dǎo)率(電阻率)不同A.純水設(shè)備的產(chǎn)水電導(dǎo)率在2-10us/cm之間，水質(zhì)一般達(dá)到新版的《工業(yè)/生活飲用水新標(biāo)準(zhǔn)》即可。B.超純水設(shè)備的產(chǎn)水水質(zhì)有比較嚴(yán)格的要求，一般根據(jù)行業(yè)的特殊性，選擇電導(dǎo)率為12MΩ、15MΩ、17MΩ、18MΩ、18.2MΩ等不同級(jí)別的超純水設(shè)備。三、應(yīng)用領(lǐng)域不同A.純水設(shè)備主要應(yīng)用在精細(xì)化工、日用化工、石油化工、水性涂料、生物化工、風(fēng)電、生物質(zhì)能源、硅材料、食品飲料、醫(yī)療器械、醫(yī)院、制藥等行業(yè)。B.超純水設(shè)備主要應(yīng)用在微電子、半導(dǎo)體、電子元器件、線(xiàn)路板、電池、光電材料、光電顯示器、光纖通訊、光伏、照明等行業(yè)。膜清洗頻率與預(yù)處理措施的完善程度是緊密相關(guān)的。無(wú)錫純水設(shè)備處理

配置比較大的壓力桶，壓力桶的儲(chǔ)水量和產(chǎn)水量成正比，如果能配置比較大的壓力桶，提升儲(chǔ)水量.濟(jì)源純水設(shè)備工程公司

反滲透純水設(shè)備試運(yùn)行問(wèn)題一、反滲透純水設(shè)備在低壓下將系統(tǒng)中的空氣趕出；二、檢查并消除系統(tǒng)的泄露；三、用低壓水將膜元件的保護(hù)液從滲透器沖出；四、產(chǎn)品水排向地溝；五、打開(kāi)濃水減壓閥；六、高壓泵出水節(jié)流閥的開(kāi)度調(diào)整到其初始?jí)毫Φ?0%；七、啟動(dòng)高壓泵進(jìn)行清洗，直至沖凈；八、關(guān)斷濃水排放閥，調(diào)節(jié)濃水減壓閥，調(diào)節(jié)給水泵出口節(jié)流閥，打開(kāi)產(chǎn)品水出口閥，關(guān)閉產(chǎn)品水排放閥，直至達(dá)到設(shè)計(jì)的產(chǎn)品水流量和系統(tǒng)回收率；九、試運(yùn)行72小時(shí)；十、做好反滲透純水設(shè)備運(yùn)行記錄包括實(shí)驗(yàn)用儀器藥品清單、試驗(yàn)方法、預(yù)處理系統(tǒng)、原水加熱自動(dòng)控制、凝聚燒杯試驗(yàn)、加氯量試驗(yàn)和出水濁度測(cè)定。濟(jì)源純水設(shè)備工程公司