近來的研究表明，以硝酸為基礎的蝕刻系統可以做到幾乎沒有側蝕，達到蝕刻的線條側壁接近垂直。這種蝕刻系統正有待于開發。蝕刻速率：蝕刻速率慢會造成嚴重側蝕。蝕刻質量的提高與蝕刻速率的加快有很大關系。蝕刻速度越快，板子在蝕刻液中停留的時間越短，側蝕量越小，蝕刻出的圖形清晰整齊。蝕刻方式：浸泡和鼓泡式蝕刻會造成較大的側蝕，潑濺和噴淋式蝕刻側蝕較小，尤以噴淋蝕刻效果較好。蝕刻液的PH值：堿性蝕刻液的PH值較高時，側蝕增大。剝鎳鈍化劑BN-8009用于鍍金工藝中不良產品的退鍍重工，廢料中金的回收，化鍍金槽的清洗等。無氨氮剝鈀劑供求信息

蝕刻液原料：草酸：在蝕刻液中作還原劑使用，一般選用工業產品。硫酸鈉：在蝕刻液中作為填充劑使用，一般選用工業產品。氫氟酸：即氟化氫的水溶液，為無色液體，能在空氣中發煙，有強烈腐蝕性和毒性，能侵蝕玻璃，需貯存于鉛制、蠟制或塑料容器中，可作為蝕刻玻璃的主要原料，一般選用工業品。硫酸：純品為無色油狀液體，含雜質時呈黃、棕等色。用水稀釋時，應將濃硫酸慢慢注入水中，并隨時攪和，而不能將水倒入濃硫酸中，以防濃硫酸飛濺而引發事故，可作為腐蝕助劑，一般選用工業品。堿性清潔劑供應商蝕刻液較難溶于乙醇，能升華，在蝕刻液中起腐蝕作用，一般選用工業產品。

化銀STM-AG70：化銀是一個非常簡單的制程，成本較低，易于維護。優良的接觸性能，獲得較好的銅/錫焊點，是幾十年電子焊接行業的優先選擇?；瘜W鎳金又叫沉鎳金，業界常稱為無電鎳金又稱為沉鎳浸金。鋁蝕刻液STM-AL100是一款專為蝕刻鋁目的去設計的化學品，STM-AL100的組成有主要蝕刻化學品，添加劑，輔助化學品，對于控制蝕刻均勻以及穩定的蝕刻速率一定的效果，在長效性的表現上更是無話可說.在化學特性上，鋁金屬容易受到酸性以及堿性的化學品攻擊，本化學品設計上為酸性配方且完全可被水溶解，故無須再花額外的成本在廢水處理上。

顯影液CY-7001使用高純度的無雜質碳酸鉀，并同時加入特殊添加劑，加快了顯影速度，防止硬水水垢產生，并使槽液壽命延長達純堿的3~5倍，有效減少了廢水量。特點：槽液不易產生沉淀物；槽體內可維持良好清潔度；PH計及自動添加控制槽液有效濃度易控制噴嘴不易堵塞；廢水量降低3倍以上；降低換槽頻率，有效提升生產效率；廢液易處理，操作簡便。安全及儲存：安全：操作時應避免接觸皮膚和眼睛，如有接觸，應立即用大量水沖洗，并送醫院就診。蝕刻劑中銅的載液增加，陽極受到額外腐蝕的負擔也較大加劇。

蝕刻法是用蝕刻液將導電線路以外的銅箔去除掉的方法，雕刻法是用雕刻機將導電線路以外的銅箔去除掉的方法，前者是化學方法，較常見，后者是物理方法。電路板蝕刻法，是化學腐蝕法，是用濃硫酸腐蝕不需要的覆銅做成的電路板。雕刻法使用物理的方法，用專門的雕刻機，刀頭雕刻覆銅板形成電路走線的方法。了解有關PCB蝕刻過程中應該注意的問題。減少側蝕和突沿，提高蝕刻系數，側蝕產生突沿。通常印制板在蝕刻液中的時間越長，側蝕越嚴重?；瘜W鍍鎳層是極為均勻的，只要鍍液能浸泡得到，溶質交換充分，鍍層就會非常均勻，幾乎可以達到仿形的效果。無氨氮鈀鈍化液哪家性價比高

蝕刻液原料：硫酸：用水稀釋時，應將濃硫酸慢慢注入水中，并隨時攪和。無氨氮剝鈀劑供求信息

STM-668錫面保護劑具體操作如下：手動退膜：開槽：4%濃度錫面保護劑，添加：每20-40M2添加1L（具體依客戶實際情況而定）。建議使用軟毛刷清洗。如退膜后還有水洗，也須在水洗槽添加0.3%錫面保護劑。自動線退膜：開槽：在退膜膨松段和噴淋段配制4%錫面保護劑，在退膜后的第1道水洗槽配制0.3%。添加：每20-50M2添加1L（具體依客戶實際情況而定）。蝕刻和烘干條件不變。注意事項：以上STM-668錫面保護劑操作說明主要是針對0.5OZ，1OZ正常板而設置，如為2OZ板則其電鍍時間或電流密度只能減低20-30%，如為3OZ（含）以上的板則需特別處理。無氨氮剝鈀劑供求信息

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