IC封裝藥液起著把金屬與腐蝕介質(zhì)完全隔開的作用，防止金屬與腐蝕介質(zhì)接觸，從而使金屬基本停止溶解形成鈍態(tài)達(dá)到防腐蝕的作用。防變色劑一般分為兩種：一種為有機(jī)封閉劑，一種為油性封閉劑。有機(jī)封閉劑：閃點(diǎn)高（110度），可水溶性，不易燃燒，使用安全，環(huán)保，無鉻，無排放；使用簡單，常溫浸泡，封閉前無需干燥產(chǎn)品；使用壽命長，平時操作一般只需添加，無需更換；產(chǎn)品封閉處理后，表面為全干性，無油感，不影響產(chǎn)品后期的導(dǎo)電與焊接性能，耐腐蝕性能提高5-20倍關(guān)于IC封裝,你知道或不知道的都在這里。蘇州IC除膠清潔供應(yīng)企業(yè)

IC封裝藥液適用于金屬表面，塑料表面，玻璃表面等的清洗和光亮，可以高效去除其表面的松香焊藥，吸塑膠以及墻上粘貼的膠紙，并且有很好的光亮效果。對表面的深層頑固污漬的去除有很好的效果。可采用浸泡法和擦拭法進(jìn)行除膠。浸泡十分鐘~3小時后，取出工件，再用棉布或軟毛刷將粘膠剝離擦除。由多種進(jìn)口表面活性、緩蝕劑及其它助劑配制而成的水基清洗劑，針對去除切割工藝的膠粘合劑特別研制。具有除膠速度快，除膠徹底，工作溫度低等優(yōu)點(diǎn)。按比例稀釋成工作液后，加熱至40-60度，浸泡4-6分鐘。南京IC去膠清洗劑庫存充足IC封裝藥水的生產(chǎn)流程。

隨著科技的不斷發(fā)展，IC封裝藥水也在不斷進(jìn)步。為了滿足更精細(xì)的工藝、更高的性能以及更嚴(yán)格的環(huán)保要求，新型封裝藥水不斷涌現(xiàn)。隨著環(huán)保意識的提高，無鉛封裝藥水已成為主流。無鉛錫膏的錫鉛合金中不含鉛，因此更環(huán)保。同時，無鉛封裝藥水也面臨更高的挑戰(zhàn)，如提高焊點(diǎn)的可靠性和耐溫性。隨著IC芯片性能的提高，需要更高的工作溫度。因此，高溫封裝藥水的發(fā)展至關(guān)重要。這種封裝藥水必須在更高的溫度下保持穩(wěn)定，同時還要具有優(yōu)良的電氣性能和機(jī)械性能。

傳統(tǒng)工藝一般需經(jīng)過除油→水洗→除銹（強(qiáng)浸蝕）→水洗→活化（弱浸蝕）→水洗等六道工序。采用本品可簡化操作步驟，提高工效。IC除銹劑使用方便：本品在常溫下配置、使用，有利于節(jié)約能源、降低成本。半導(dǎo)體制程所用清洗液可大致分為兩類。一類是散裝化學(xué)試劑，如氫氟酸、硫酸、雙氧水以及氨水等；第二類是所謂功能性的藥液，就是在上述散裝化學(xué)試劑、水以及有機(jī)溶劑的基礎(chǔ)上，添加鰲合劑、表面活性劑等混合而成。其中，作為功能性的藥液的表示品種，從事聚合物剝離液和CMP（化學(xué)機(jī)械拋光）后清洗液生產(chǎn)的企業(yè)眾多，競爭異常激烈。IC封裝藥水在酸性、中性、堿性條件下均能溶解透明，且長期穩(wěn)定。

IC封裝藥液使用浸泡、滌刷或噴灑方式均可，浸泡方法較佳。除銹后應(yīng)用大量水沖洗其殘留物，如果除銹后需防銹，則需應(yīng)大量水沖洗后，用5%氫氧化鈉溶液進(jìn)行中和鈍化、擦干后再噴灑IC除銹劑進(jìn)行保護(hù)。IC除銹劑所釋放出的氣體易燃，所以IC除銹劑應(yīng)遠(yuǎn)離高溫、火花、火焰以及產(chǎn)生靜電的場所。應(yīng)在通風(fēng)良好的環(huán)境下使用。不用時保持容器密閉。避免兒童接觸。避免皮膚和眼睛接觸和吸入。在除銹之前，對于有油的工件，我們一般需要對進(jìn)行除油處理，將在除油劑溶液中泡幾分鐘，直到除油處理完成后取出，用清水沖洗干凈，即可開始進(jìn)行除銹。IC封裝藥水對黑色金屬和其它有色金屬都有輔助的防腐蝕作用。江蘇IC鍍錫藥劑制造商

IC封裝藥水保光、保色效果好，耐久，很好的耐候性，為耐黃變產(chǎn)品。蘇州IC除膠清潔供應(yīng)企業(yè)

現(xiàn)代清洗技術(shù)中的關(guān)鍵要求：IC清潔劑在未來90~65nm節(jié)點(diǎn)技術(shù)工藝中，除了要考慮清洗后的硅片表面的微粗糙度及自然氧化物去除率等技術(shù)指標(biāo)外，也要考慮對環(huán)境的污染以及清洗的效率其經(jīng)濟(jì)效益等。硅片清洗技術(shù)評價的主要指標(biāo)可以歸納為：微粗糙度（RMS)；自然氧化物去除率；金屬沾污、表面顆粒度以及有機(jī)物沾污，其他指標(biāo)還包括：芯片的破損率；清洗中的再沾污；對環(huán)境的污染；經(jīng)濟(jì)的可接受：包括設(shè)備與運(yùn)行成本、清洗效率)等。金屬沾污在硅片上是以范德華引力、共價鍵以及電子轉(zhuǎn)移等三種表面形式存在的。這種沾污會破壞薄氧化層的完整性，增加漏電流密度，影響MOs器件的穩(wěn)定性，重金屬離子會增加暗電流，情況為結(jié)構(gòu)缺陷或霧狀缺陷。蘇州IC除膠清潔供應(yīng)企業(yè)