ITO蝕刻廢液的處理具體特點(diǎn):第1、印制板廠的廢蝕刻液不必再由外單位拉走,在廠內(nèi)就可直接銅回收和廢蝕刻液的循環(huán)使用。實(shí)現(xiàn)了清潔生產(chǎn),不會(huì)對環(huán)境造成任何污染,符合國家法律政策。第二、印制板廠蝕刻機(jī)的氨洗水,也同時(shí)獲得了再生回用,或可實(shí)現(xiàn)無污染排放。第三、很大程度減輕了印制板廠廢水處理站的運(yùn)行負(fù)荷,降低運(yùn)行成本。第四、變廢為寶,為企業(yè)帶來良好的經(jīng)濟(jì)效益。第五、自主研制、開發(fā)、制造、安裝、調(diào)試,全套設(shè)備采用PLC數(shù)字控制,易操作管理。第六、落實(shí)了國家《清潔生產(chǎn)促進(jìn)法》,樹立科學(xué)發(fā)展觀,創(chuàng)造人和自然的和諧發(fā)展,實(shí)現(xiàn)“資源再生,循環(huán)經(jīng)濟(jì)”的可持續(xù)經(jīng)濟(jì)發(fā)展目標(biāo),有著非常重要的意義。ITO顯影劑就是一種納米導(dǎo)光性能的材料合成的。蘇州TIO銅網(wǎng)格黑化供貨企業(yè)
TIO蝕刻液的基本信息:(1)配方。①熱水12g,氟化銨15g,草酸8g,硫酸銨10g,甘油40g,硫酸鋇15g;②氟化銨15g,草酸7g,硫酸銨8g,硫酸鈉14g,甘油35g,水10g;③氫氟酸60(體積數(shù),下同),硫酸10,水30。(2)配制方法。配制蝕刻液①和②時(shí),將上述原料與60℃熱水混合,攪拌均勻即可。配置時(shí)不要使溶液濺到皮膚上,而且操作時(shí)應(yīng)戴上口罩。配制蝕刻液③時(shí),按配方將氫氟酸和硫酸混合,然后將混合液倒入水中(不能將水倒入混合液),并不斷攪拌。(3)使用方法。使用刻蝕液①或②時(shí),把要蝕刻的玻璃洗凈、晾干,建議用電爐或紅外線燈將玻璃稍微加熱,以便于蝕刻。蝕刻時(shí),用毛筆蘸蝕刻液書寫文字或圖案于玻璃上,2min蝕刻工作即完成。制作毛玻璃時(shí),將玻璃洗凈、晾干,用刷子均勻涂上腐蝕液即可。蘇州TIO銅網(wǎng)格黑化供貨企業(yè)ITO顯影液是半導(dǎo)體、顯示面板、太陽能電池制作過程中關(guān)鍵的原材料之一。
影響ITO蝕刻液側(cè)蝕的因素很多,下面概述幾點(diǎn):1)蝕刻速率:蝕刻速率慢會(huì)造成嚴(yán)重側(cè)蝕。蝕刻質(zhì)量的提高與蝕刻速率的加快有很大關(guān)系。蝕刻速度越快,板子在蝕刻液中停留的時(shí)間越短,側(cè)蝕量越小,蝕刻出的圖形清晰整齊。2)蝕刻液的PH值:堿性蝕刻液的PH值較高時(shí),側(cè)蝕增大。為了減少側(cè)蝕,一般PH值應(yīng)控制在8.5以下。3)蝕刻液的密度:堿性蝕刻液的密度太低會(huì)加重側(cè)蝕,選用高銅濃度的蝕刻液對減少側(cè)蝕是有利的。6)銅箔厚度:要達(dá)到較小側(cè)蝕的細(xì)導(dǎo)線的蝕刻,盡量采用(超)薄銅箔。而且線寬越細(xì),銅箔厚度應(yīng)越薄。因?yàn)椋~箔越薄在蝕刻液中的時(shí)間越短,側(cè)蝕量就越小。
ITO蝕刻液是通過侵蝕材料的特性來進(jìn)行雕刻的一種液體,是一種銅版畫雕刻用原料。從理論上講,凡能氧化鋼而生成可溶性銅鹽的試劑,都可以用來蝕刻敷銅箔板,但是ITO蝕刻液用途要權(quán)衡對抗蝕層的破壞情況、蝕刻速度,溶液再生及銅的回收、環(huán)境保護(hù)及經(jīng)濟(jì)效果等各方面的影響因素選擇合適的試劑。對于ITO蝕刻液用法的理解,我們可以用個(gè)比較通俗的說法,那就是使用具有腐蝕性的一些化學(xué)材料對某種物品進(jìn)行腐蝕,將不需要的部分腐蝕掉,從而將其雕刻成所需要的目標(biāo)物品的過程。那這個(gè)具有腐蝕性的化學(xué)材料,就稱為ITO蝕刻液了ITO藥水的用途很廣的。
ITO顯影液的濃度是指顯影劑的相對含量,即NaOH、Na2SiO3總含量。市場上銷售的顯影液多是濃縮型液體,使用時(shí)需要按比例稀釋,顯影液的濃度多以顯影液的稀釋比來表示。在其他條件不變的前提下,顯影速度與顯影液濃度成正比關(guān)系,即顯影液濃度越大,顯影速度越快。當(dāng)溫度22℃,顯影時(shí)間為60秒時(shí),PD型顯影液濃度對PS版性能的影響。當(dāng)顯影液濃度過大時(shí),往往因顯影速度過快而使顯影操作不易控制;特別是它對圖文基礎(chǔ)的腐蝕性增強(qiáng),容易造成網(wǎng)點(diǎn)縮小、殘損、亮調(diào)小網(wǎng)點(diǎn)丟失及減薄涂層,從而造成耐印力下降等弊病;同時(shí)空白部位的氧化膜和封孔層也會(huì)受到腐蝕和破壞,版面出現(xiàn)發(fā)白現(xiàn)象,使印版的親水性和耐磨性變差。顯影液濃度大,還易有結(jié)晶析出。當(dāng)顯影液的濃度偏低時(shí),堿性弱,顯影速度慢,易出現(xiàn)顯影不凈、版面起臟、暗調(diào)小白點(diǎn)糊死等現(xiàn)象。ITO顯影液的顯影速度與濃度成正比關(guān)系。銅發(fā)黑生產(chǎn)商
ITO蝕刻液可以說是通過侵蝕材料的特性來進(jìn)行雕刻的一種液體。蘇州TIO銅網(wǎng)格黑化供貨企業(yè)
ITO蝕刻液影響蝕刻速率的因素:酸性氯化銅蝕刻液。1、Cu2+含量的影響。溶液中的Cu2+含量對蝕刻速率有一定的影響。一般情況下,溶液中Cu2+濃度低于2mol/L時(shí),蝕刻速率較低;在2mol/L時(shí)速率較高。隨著蝕刻反應(yīng)的不斷進(jìn)行,蝕刻液中銅的含量會(huì)逐漸增加。當(dāng)銅含量增加到一定濃度時(shí),蝕刻速率就會(huì)下降。為了保持蝕刻液具有恒定的蝕刻速率,必須把溶液中的含銅量控制在一定的范圍內(nèi)。2、Cu+含量的影響。根據(jù)蝕刻反應(yīng)機(jī)理,隨著銅的蝕刻就會(huì)形成一價(jià)銅離子。較微量的Cu+就會(huì)明顯的降低蝕刻速率。所以在蝕刻操作中要保持Cu+的含量在一個(gè)低的范圍內(nèi)。蘇州TIO銅網(wǎng)格黑化供貨企業(yè)
蘇州圣天邁電子科技有限公司擁有研發(fā)、設(shè)計(jì)電子材料、電子產(chǎn)品、自動(dòng)化設(shè)備及配件、機(jī)電設(shè)備及配件;從事電子材料、電子產(chǎn)品、自動(dòng)化設(shè)備及配件、機(jī)電設(shè)備及配件、塑膠產(chǎn)品、辦公設(shè)備、金屬制品、化工產(chǎn)品(危險(xiǎn)化學(xué)品按《危險(xiǎn)化學(xué)品經(jīng)營許可證》核定的范圍和方式經(jīng)營)的批發(fā)、零售、進(jìn)出口及傭金代理(拍賣除外)業(yè)務(wù);并提供相關(guān)技術(shù)服務(wù)。(不涉及國營貿(mào)易管理商品,涉及配額、許可證管理商品的,按國家有關(guān)規(guī)定辦理申請)(依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項(xiàng)目,經(jīng)相關(guān)部門批準(zhǔn)后方可開展經(jīng)營活動(dòng))等多項(xiàng)業(yè)務(wù),主營業(yè)務(wù)涵蓋銅剝掛加速劑,蝕刻添加劑 ,剝鎳鈍化劑,印制電路板蝕刻液在線循環(huán)。公司目前擁有專業(yè)的技術(shù)員工,為員工提供廣闊的發(fā)展平臺與成長空間,為客戶提供高質(zhì)的產(chǎn)品服務(wù),深受員工與客戶好評。公司業(yè)務(wù)范圍主要包括:銅剝掛加速劑,蝕刻添加劑 ,剝鎳鈍化劑,印制電路板蝕刻液在線循環(huán)等。公司奉行顧客至上、質(zhì)量為本的經(jīng)營宗旨,深受客戶好評。公司力求給客戶提供全數(shù)良好服務(wù),我們相信誠實(shí)正直、開拓進(jìn)取地為公司發(fā)展做正確的事情,將為公司和個(gè)人帶來共同的利益和進(jìn)步。經(jīng)過幾年的發(fā)展,已成為銅剝掛加速劑,蝕刻添加劑 ,剝鎳鈍化劑,印制電路板蝕刻液在線循環(huán)行業(yè)出名企業(yè)。