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化學銀供應

來源: 發布時間:2022-01-30

為了減少側蝕,一般PH值應控制在8.5以下,蝕刻液的密度:堿性蝕刻液的密度太低會加重側蝕,選用高銅濃度的蝕刻液對減少側蝕是有利的。銅箔厚度:要達到較小側蝕的細導線的蝕刻,盡量采用(超)薄銅箔。而且線寬越細,銅箔厚度應越薄。因為,銅箔越薄在蝕刻液中的時間越短,側蝕量就越小。PCB清洗藥劑清洗效果好,不含鹵素、低氣味。對工件表面無腐蝕,不變色;水基,無閃點;無殘留,易漂洗;不腐蝕,無毒,無污染;符合歐盟RoHS認證要求。蝕刻液原料:氟化銨:分子式為NH4F,白色晶體,易潮解,易溶于水和甲醇。化學銀供應

數據中心沉浸式冷卻:數據中心對我們生活的方方面面都至關重要,從商業到通信和娛樂。但大型數據中心使用大量電力,其中大部分用于冷卻。采用電子含氟液體的浸入式冷卻方法,可以實現簡單的散熱設計,數據中心的功耗成本降低97%。功率器件的浸沒冷卻:功率器件是許多大功率電機應用中的關鍵部件。這些電子設備使所有的功率轉換成為可能。從高速電動火車到推土機上使用的電力牽引系統,這些大功率設備都需要冷卻一個帶有電子氟化液體的浸沒式冷卻系統可以實現這一目標。金面清洗液供應剝掛加速劑BG-3006藥液沾到皮膚或眼睛上,馬上用水沖冼,然后接受診療。

顯影液CY-7001儲存:應存放在陰涼干燥場所,應避免陽光直曬,或高溫環境。銅面鍵結劑STM-228用于銅面表面鍵結劑,增加銅面與干(濕)膜的貼合力。特點:增加干(濕)膜和銅面鍵結能力,在銅表面形成化學鍵;減少細線路所產生之浮離現象;使用于水平噴灑設備時,不會產生大量泡沫;直接使用于現有設備上,不需另外修改設備;操作簡單,根據槽體2~4周更換槽液一次。制程控制與維護:使用前應確認噴嘴或水刀無阻塞;處理時間需與設備條件搭配,可搭配或取代不同的設備情況。

電子氟化液作為溶劑,可用作各種反應溶劑、潤滑劑稀釋劑等。特點:無色、無味、無毒、不燃燒,ODP值為零;表面張力低、粘度低、蒸發潛熱低。用途:專屬溶劑、清洗劑、清洗劑、無水液、脫焊劑、傳熱介質,主要用于電子儀器和激光盤的清洗、顆粒和雜物的去除、光學系統和精密場合的清洗,因此可以在不增加設備投資或對工藝進行重大改變的情況下使用原清洗設備,一定環保安全。當今許多先進技術都必須做同樣的事情:熱管理。無論是半導體芯片制造過程中的溫度控制,還是數據中心、功率器件、航空電子設備中的散熱,傳熱都普遍存在于現代的生活中。蝕刻液原料:硫酸鈉:在蝕刻液中作為填充劑使用,一般選用工業產品。

環保型除鈀液_CB-1070制程控制與維護:嚴格控制濃度;控制帶出量,液位不夠按比例補充; 盡量控制清洗水不要帶進,以免濃度變低;當溶液變很渾濁時,說明溶液內四價錫濃度較高,建議全部更新。安全與存儲:貯存于陰涼通風處;本產品為堿性液體,避免接觸皮膚及眼睛,使用時請注意穿戴必要的防護用品,若不慎濺及皮膚或眼睛上,請先用大量清水沖洗,再去就醫;若本物質泄漏,請用沙土掩住或用大量水稀釋。化銀STM-AG70:化銀可以在電路表面得到一層均勻的光澤鍍層,利于高密度互連電路,微細間距SMT,BGA和芯片的直接組裝。蝕刻液原料:草酸:在蝕刻液中作還原劑使用,一般選用工業產品。金面清洗液供應

鋁蝕刻液STM-AL100是一款專為蝕刻鋁目的去設計的化學品。化學銀供應

鋁蝕刻液STM-AL10旋轉噴淋:選轉轉速以低于 2000 轉來獲得較佳的蝕刻均勻度表現,藥液噴灑頭以每分鐘擺動十次為佳,若待蝕刻物面積較大可以設為十次.噴灑頭壓力根據不同蝕刻厚度可設定在 0.2 psi 到 0.5 psi。注意事項與存儲:此化學品為酸性,且為具毒性的化學品,避免直接接觸皮膚跟眼睛;此化學品也具有腐蝕性,有肯能造成燒傷風險。操作時請帶手套、眼鏡等保護器具,萬一藥液沾到皮膚或眼睛上,馬上用水沖冼,然后接受診療。本藥液在本司出廠前已填入高密度PE瓶,在不使用的狀況下將瓶蓋緊閉。化學銀供應

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