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發貨地點:上海市浦東新區

發布時間:2025-06-23

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在構建肝臟芯片的血管化網絡時,某生物工程團隊使用 Polos 光刻機實現了跨尺度結構制備。其無掩模技術在 200μm 的主血管與 5μm 的blood capillary間precise銜接,血管內皮細胞貼壁率達 95%,較傳統光刻提升 30%。通過輸入 CT 掃描的真實肝臟血管數據,芯片成功模擬門靜脈與肝竇的血流梯度,使肝細胞功能維持時間從 7 天延長至 21 天。該技術為藥物肝毒性測試提供了接近體內環境的模型,某制藥公司使用后將候選藥物篩選周期縮短 40%,相關成果登上《Lab on a Chip》封面。亞微米級精度:0.8 mmost小線寬,支持高精度微流體芯片與MEMS器件制造。天津德國桌面無掩模光刻機

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某材料科學研究中心在探索新型納米復合材料的性能時,需要在材料表面構建特殊的納米圖案。德國 Polos 光刻機成為實現這一目標的得力工具。研究人員利用其無掩模激光光刻技術,在不同的納米材料表面制作出各種周期性和非周期性的圖案結構。經過測試發現,帶有特定圖案的納米復合材料,其電學、光學和力學性能發生了remarkable改變。例如,一種原本光學性能普通的納米材料,在經過 Polos 光刻機處理后,對特定波長光的吸收率提高了 30%,為開發新型光電器件和光學傳感器提供了新的材料選擇和設計思路 。安徽光刻機分辨率1.5微米成本效益:單次曝光成本低于傳統光刻 1/3,小批量研發更經濟。

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某生物力學實驗室通過 Polos 光刻機,在單一芯片上集成了壓阻式和電容式細胞力傳感器。其多材料曝光技術在 20μm 的懸臂梁上同時制備金屬電極與硅基壓阻元件,傳感器的力分辨率達 5pN,位移檢測精度達 1nm。在心肌細胞收縮力檢測中,該集成傳感器實現了力 - 電信號的同步采集,發現收縮力峰值與動作電位時程的相關性達 0.92,為心臟電機械耦合機制研究提供了全新工具,相關論文發表于《Biophysical Journal》。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術,用于在基板上以高精度和高分辨率創建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發出一款緊湊且經濟高效的 MLL 系統。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統等各個領域。該系統的經濟高效性使其優勢擴展到大學研究實驗室以外的領域,為半導體和醫療公司提供了利用其功能的機會。

德國Polos-BESM系列光刻機采用無掩模激光直寫技術,突破傳統光刻對物理掩膜的依賴,支持用戶通過軟件直接輸入任意圖案進行快速曝光。其亞微米分辨率(most小線寬0.8 m)和405 nm紫外光源,可在5英寸晶圓上實現高精度微納結構加工18。系統體積緊湊,only占桌面空間,搭配閉環自動對焦(1秒完成)和半自動多層對準功能,大幅提升實驗室原型開發效率,適用于微流體芯片設計、電子元件制造等領域。無掩模光刻技術可以隨意進行納米級圖案化,無需使用速度慢且昂貴的光罩。這種便利對于科研和快速原型制作非常有用。POL0S@ Beam XL在性能上沒有任何妥協的情況下,將該技術帶到了桌面上,進一步提升了其優勢。多材料兼容:金屬 / 聚合物 / 陶瓷同步加工,微流控芯片集成傳感器一步成型。

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形狀記憶合金、壓電陶瓷等智能材料的微結構加工需要高精度圖案定位。Polos 光刻機的亞微米級定位精度,幫助科研團隊在鎳鈦合金薄膜上刻制出復雜驅動電路,成功制備出微型可編程抓手。該抓手在 40℃溫場中可實現 0.1mm 行程的precise控制,抓取力達 50mN,較傳統微加工方法性能提升 50%。該技術被應用于微納操作機器人,在單細胞膜片鉗實驗中成功率從 40% 提升至 75%,為細胞級precise操作提供了關鍵工具。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術,用于在基板上以高精度和高分辨率創建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發出一款緊湊且經濟高效的 MLL 系統。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統等各個領域。該系統的經濟高效性使其優勢擴展到大學研究實驗室以外的領域,為半導體和醫療公司提供了利用其功能的機會。無掩模激光直寫技術:無需物理掩膜,軟件直接輸入任意圖案,降低成本與時間。天津德國桌面無掩模光刻機

快速自動對焦:閉環對焦系統1秒完成,多層半自動對準提升實驗效率。天津德國桌面無掩模光刻機

某基因treatment團隊采用 Polos 光刻機開發了微米級 DNA 遞送載體。通過 STL 模型直接導入,在生物可降解聚合物表面刻制出 1-5μm 的蜂窩狀微孔結構,載體的 DNA 負載量達 200μg/mg,較傳統電穿孔法提升 5 倍。動物實驗顯示,該載體在肝臟靶向遞送中,基因轉染效率達 65%,且免疫原性降低 70%。其無掩模特性支持根據不同細胞表面受體定制載體形貌,在 CAR-T 細胞treatment中,CAR 基因導入效率從 30% 提升至 75%,相關技術已申請國際patent。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術,用于在基板上以高精度和高分辨率創建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發出一款緊湊且經濟高效的 MLL 系統。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統等各個領域。該系統的經濟高效性使其優勢擴展到大學研究實驗室以外的領域,為半導體和醫療公司提供了利用其功能的機會。天津德國桌面無掩模光刻機

 

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