廣東吉田半導體材料有限公司多種光刻膠產品，主要涵蓋厚板、負性、正性、納米壓印及光刻膠等類別，以滿足不同領域的需求。
厚板光刻膠：JT-3001 型號，具有優異的分辨率和感光度，抗深蝕刻性能良好，符合歐盟 ROHS 標準，保質期 1 年。適用于對精度和抗蝕刻要求高的厚板光刻工藝，如特定電路板制造。
負性光刻膠
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SU-3 負性光刻膠：分辨率優異，對比度良好，曝光靈敏度高，光源適應，重量 100g。常用于對曝光精度和光源適應性要求較高的微納加工、半導體制造等領域。
正性光刻膠
半導體芯片制造，用于精細電路圖案光刻，決定芯片性能與集成度。珠海光刻膠多少錢
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LCD 正性光刻膠 YK-200：具有較大曝光、高分辨率、良好涂布和附著力，重量 100g。適用于液晶顯示領域的光刻工藝，確保 LCD 生產中圖形精確轉移和良好涂布效果。
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半導體正性光刻膠 YK-300：具備耐熱耐酸、耐溶劑性、絕緣阻抗和緊密性，重量 100g。主要用于半導體制造工藝，滿足半導體器件對光刻膠在化學穩定性和電氣性能方面的要求。
技術挑戰與發展趨勢
更高分辨率需求：
EUV光刻膠需解決“線邊緣粗糙度（LER）”問題（目標＜5nm），通過納米顆粒分散技術或新型聚合物設計改善。
缺陷控制：
半導體級正性膠要求金屬離子含量＜1ppb，顆粒（＞50nm）＜1個/mL，需優化提純工藝（如多級過濾+真空蒸餾）。
國產化突破：
國內企業（如上海新陽、南大光電、容大感光）已在KrF/ArF膠實現批量供貨，但EUV膠仍被日本JSR、美國陶氏、德國默克壟斷，需突破樹脂合成、PAG純度等瓶頸。
環保與節能：
開發水基顯影正性膠（減少有機溶劑使用），或低烘烤溫度膠（降低半導體制造能耗）。
典型產品示例
傳統正性膠：Shipley S1813（G/I線，用于PCB）、Tokyo Ohka TSM-305（LCD黑矩陣）。
DUV正性膠：信越化學的ArF膠（用于14nm FinFET制程）、中芯國際認證的國產KrF膠（28nm節點）。
EUV正性膠：JSR的NeXAR系列（7nm以下，全球市占率超70%）。
正性光刻膠是推動半導體微縮的主要材料，其技術進步直接關聯芯片制程的突破，未來將持續向更高精度、更低缺陷、更綠色工藝演進。
廣東LED光刻膠供應商發展戰略與行業地位。
光刻膠的納米級性能要求
超高分辨率：需承受電子束（10keV以上）或EUV（13.5nm波長）的轟擊，避免散射導致的邊緣模糊，目前商用EUV膠分辨率已達13nm（3nm制程）。
低缺陷率：納米級結構對膠層中的顆粒或化學不均性極其敏感，需通過化學增幅型配方（如酸催化交聯）提升對比度和抗刻蝕性。
多功能性：兼容多種基底（柔性聚合物、陶瓷）和后處理工藝（干法刻蝕、原子層沉積），例如用于柔性電子的可拉伸光刻膠。
技術挑戰與前沿方向
EUV光刻膠優化：解決曝光后酸擴散導致的線寬波動，開發含氟聚合物或金屬有機材料以提高靈敏度。
無掩膜光刻：結合機器學習優化電子束掃描路徑，直接寫入復雜納米圖案（如神經網絡芯片的突觸陣列），縮短制備周期。
生物基光刻膠：開發可降解、低毒性的天然高分子光刻膠，用于生物芯片或環保型納米制造。
以無鹵無鉛配方與低 VOC 工藝為，吉田半導體打造環保光刻膠，助力電子產業低碳轉型。面對全球環保趨勢，吉田半導體推出無鹵無鉛錫膏與焊片，通過歐盟 RoHS 認證，焊接可靠性提升 30%。其 LCD 光刻膠采用低 VOC 配方（<50g/L），符合歐盟 REACH 法規，生產過程中通過多級廢氣處理與水循環系統，實現零排放。公司嚴格執行 8S 現場管理，工業固廢循環利用率超 90%，為新能源汽車、光伏儲能等領域提供綠色材料解決方案，成為全球客戶信賴的環保材料供應商。光刻膠：半導體之路上的挑戰與突破。
LCD顯示
彩色濾光片（CF）：
黑色矩陣（BM）光刻膠：隔離像素，線寬精度±2μm，透光率<0.1%。
RGB色阻光刻膠：形成紅/綠/藍像素，需高色純度（NTSC≥95%）和耐光性。
陣列基板（Array）：
柵極絕緣層光刻膠：用于TFT-LCD的柵極圖案化，分辨率≤3μm。
OLED顯示（柔性/剛性）
像素定義層（PDL）光刻膠：在基板上形成有機發光材料的 confinement 結構，線寬精度±1μm，需耐溶劑侵蝕（適應蒸鍍工藝）。
觸控電極（如ITO/PET）：通過光刻膠圖形化實現透明導電線路，線寬≤5μm。
Mini/Micro LED
巨量轉移前的芯片制備：使用高分辨率光刻膠（分辨率≤5μm）定義微米級LED陣列，良率要求>99.99%。
PCB光刻膠國產化率超50%。天津3微米光刻膠品牌
LCD 光刻膠供應商哪家好？吉田半導體高分辨率 + 低 VOC 配方！珠海光刻膠多少錢
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全品類覆蓋
吉田半導體產品線涵蓋正性 / 負性光刻膠、納米壓印光刻膠、LCD 光刻膠、厚膜光刻膠及水性光刻膠等，覆蓋芯片制造、顯示面板、PCB 及微納加工等多領域需求，技術布局全面性于多數國內廠商。
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關鍵技術突破
納米壓印技術：JT-2000 納米壓印光刻膠耐高溫達 250℃，支持納米級精度圖案復制，適用于第三代半導體（GaN/SiC）及 Mini LED 等新興領域，技術指標接近國際先進水平。
水性環保配方：JT-1200 水性感光膠以水為溶劑替代傳統有機溶劑，低 VOC 排放，符合 RoHS 和 REACH 標準，環保性能優于同類產品。
厚膜工藝能力：JT-3001 厚板光刻膠膜厚可控（達數十微米），滿足高密度像素陣列及 MEMS 器件的制造需求。
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廣東吉田半導體材料有限公司在同行業領域中，一直處在一個不斷銳意進取，不斷制造創新的市場高度，多年以來致力于發展富有創新價值理念的產品標準，在廣東省等地區的電工電氣中始終保持良好的商業口碑，成績讓我們喜悅，但不會讓我們止步，殘酷的市場磨煉了我們堅強不屈的意志，和諧溫馨的工作環境，富有營養的公司土壤滋養著我們不斷開拓創新，勇于進取的無限潛力，吉田半導體供應攜手大家一起走向共同輝煌的未來，回首過去，我們不會因為取得了一點點成績而沾沾自喜，相反的是面對競爭越來越激烈的市場氛圍，我們更要明確自己的不足，做好迎接新挑戰的準備，要不畏困難，激流勇進，以一個更嶄新的精神面貌迎接大家，共同走向輝煌回來！
